韓國新工藝可快速傳輸薄膜而不損壞薄膜
新工藝采用新型噴氣技術，在高壓下噴灑分離氣體，如氮氣、氬氣和空氣。氣體在OLED和襯底間以300m/s的速度被噴射，這降低了OLED與襯底的結合力，并增加了被轉移的有機層的結合能力。這可以用于快速傳輸薄膜而不損壞薄膜。
研究人員表示，使用新方法轉移的薄膜表面粗糙度為5.2納米，而現行方法的表面粗糙度為473納米。
韓國新工藝可快速傳輸薄膜而不損壞薄膜
新工藝采用新型噴氣技術，在高壓下噴灑分離氣體，如氮氣、氬氣和空氣。氣體在OLED和襯底間以300m/s的速度被噴射，這降低了OLED與襯底的結合力，并增加了被轉移的有機層的結合能力。這可以用于快速傳輸薄膜而不損壞薄膜。
研究人員表示，使用新方法轉移的薄膜表面粗糙度為5.2納米，而現行方法的表面粗糙度為473納米。
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